Intel在最近的一次计算机与微处理器技术会议上表示，晶体管微型化之路将得到进一步延续，Intel正计划从2009年开始在处理器生产中采用32纳米工艺。
更先进的工艺代表着更微小的晶体管结构，这就需要特殊的远紫外线平版印刷技术，其复杂程度有可能会延缓新生产工艺的部署。
2004年初，Intel向业界领先的半导体生产用远紫外线光源技术供应商Cymer公司投入2000万美元资金，争取在三年内加速远紫外线平版印刷光源的商业实用化进程。
此前Intel曾多次向其客户和投资者表达了在近期进入32纳米时代的决心，并称届时能否实现新工艺产品的量产对Intel来说是至关重要的一次考验。
(责任编辑：刘伟) | 
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